लिथोग्राफी हे डिझाइन केलेले पॅटर्न थेट किंवा मध्यवर्ती माध्यमाद्वारे एका सपाट पृष्ठभागावर हस्तांतरित करण्याचे तंत्र आहे, ज्या पृष्ठभागावर नमुना आवश्यक नाही अशा भागांना वगळून. मास्क लिथोग्राफीमध्ये, डिझाईन्स सब्सट्रेटवर छापल्या जातात आणि a सह उघड केल्या जातातलेसरजेणेकरून जमा केलेली सामग्री पुढील प्रक्रियेसाठी तयार होईल. ही लिथोग्राफी पद्धत सेमीकंडक्टर वेफर्सच्या मोठ्या प्रमाणात उत्पादनात वापरली जाते. वेफरवर लहान वैशिष्ट्यांच्या तीक्ष्ण प्रतिमा प्रक्षेपित करण्याची क्षमता वापरलेल्या प्रकाशाच्या तरंगलांबीद्वारे मर्यादित आहे. सर्वात प्रगत लिथोग्राफी टूल्स आज डीप अल्ट्राव्हायोलेट लाइट (DUV) वापरतात आणि भविष्यात या तरंगलांबी खोल अल्ट्राव्हायोलेट (193 nm), व्हॅक्यूम अल्ट्राव्हायोलेट (157 nm आणि 122 nm), आणि अत्यंत अल्ट्राव्हायोलेट (47 nm आणि 13n) पर्यंत पसरत राहतील. ). जटिल उत्पादने आणि IC, MEMS आणि बायोमेडिकल मार्केट्ससाठी वारंवार होणारे डिझाइन बदल -- जिथे विविध प्रकारची फंक्शन्स आणि सब्सट्रेट आकारांची मागणी वाढत आहे -- यामुळे उत्पादनाची मात्रा कमी करताना या अत्यंत सानुकूलित सोल्यूशन्सच्या निर्मितीची किंमत वाढली आहे. पारंपारिक मास्क-आधारित (मास्क) लिथोग्राफी सोल्यूशन्स यापैकी बर्‍याच ऍप्लिकेशन्ससाठी किफायतशीर किंवा व्यावहारिक नाहीत, जेथे मोठ्या प्रमाणात मास्क किट डिझाइन आणि तयार करण्यासाठी लागणारा खर्च आणि वेळ वेगाने वाढू शकतो. तथापि, मास्कलेस लिथोग्राफी ऍप्लिकेशन्स अत्यंत कमी UV तरंगलांबीच्या गरजेमुळे अडथळा आणत नाहीत आणि त्याऐवजी वापरतातलेसरनिळ्या आणि अतिनील श्रेणीतील स्त्रोत. मुखवटाविरहित लिथोग्राफीमध्ये,लेसरप्रकाशसंवेदनशील पदार्थांच्या पृष्ठभागावर थेट सूक्ष्म/नॅनो संरचना निर्माण करते. ही अष्टपैलू लिथोग्राफी पद्धत मुखवटा उपभोग्य वस्तूंवर अवलंबून नाही आणि लेआउटमध्ये त्वरीत बदल केले जाऊ शकतात. परिणामी, मोठ्या क्षेत्राच्या कव्हरेजचा फायदा (जसे की 300 मिमी सेमीकंडक्टर वेफर्स, फ्लॅट पॅनेल डिस्प्ले किंवा PCBS) टिकवून ठेवताना, अधिक डिझाइन लवचिकतेसह, जलद प्रोटोटाइपिंग आणि विकास सोपे होते. जलद उत्पादनाच्या गरजा पूर्ण करण्यासाठी,लेसरमास्कलेस लिथोग्राफीसाठी वापरल्या जाणार्‍या मास्क ऍप्लिकेशनसाठी वापरल्या जाणार्‍या वैशिष्ट्यांसारखीच वैशिष्ट्ये आहेत: सतत लहरी प्रकाश स्रोत दीर्घकालीन शक्ती आणि तरंगलांबी स्थिरता, अरुंद रेषा रुंदी आणि मुखवटा लहान बदल आहे. थोड्या देखभाल किंवा उत्पादन चक्रातील व्यत्ययासह दीर्घायुष्य स्थिरता दोन्ही अनुप्रयोगांसाठी महत्त्वपूर्ण आहे. DPSS लेसरमध्ये अल्ट्रा-स्थिर अरुंद रेषाविड्थ, तरंगलांबी स्थिरता आणि उर्जा स्थिरता आहे आणि दोन लिथोग्राफी पद्धतींसाठी योग्य आहे. आम्ही अतुलनीय तरंगलांबी स्थिरता, अरुंद रेषेची रुंदी आणि लांब कोरड्या लांबीच्या तरंगलांबी श्रेणीवर एक लहान फूटप्रिंट असलेले उच्च-शक्ती, सिंगल-फ्रिक्वेंसी लेसर डिझाइन आणि तयार करतो -- ते विद्यमान सिस्टममध्ये एकत्रीकरणासाठी आदर्श बनवतो.
We use cookies to offer you a better browsing experience, analyze site traffic and personalize content. By using this site, you agree to our use of cookies.
Privacy Policy
